1年高値4,925 円
1年安値2,224 円
出来高151 千株
市場東証1
業種電気機器
会計日本
EV/EBITDA6.9 倍
PBR1.2 倍
PSR・会予1.1 倍
ROA3.8 %
ROIC3.2 %
β1.48
決算6月末
設立日1952/8/23
上場日2004/4/20
配当・会予70 円
配当性向36.6 %
PEGレシオ-0.5 倍
売上高(百万円)&収益性(%)
売上5y CAGR・予想:-8.2 %
利益(百万円)
営利5y CAGR・予想:-15.5 %
純利5y CAGR・予想:-20.0 %
EPS(円) BPS(円)
配当(円)
健全性(%、倍)
セグメント別売上
セグメント別営業利益
セグメント別利益率
会社の詳細

3【事業の内容】

 当社グループは、当社、子会社43社、関連会社9社からなり、真空技術が利用されているさまざまな産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している真空総合メーカーであります。

  事業内容は、真空技術を基盤として、真空装置・機器やサービスを提供する真空機器事業と真空技術の周辺技術を基盤として、主に材料や表面分析装置等を提供する真空応用事業に区分できます。

 

 各々の事業区分ごとの主要製品は下表のとおりであります。

事業区分

主要製品

真空機器事業

FPD及びPV製造装置

スパッタリング装置、プラズマCVD装置、有機EL製造装置、真空蒸着装置、太陽電池製造装置、巻取式蒸着装置、巻取式スパッタリング装置他

半導体及び電子部品製造装置

スパッタリング装置、真空蒸着装置、エッチング装置、イオン注入装置、アッシング装置、各種CVD装置、ウェーハ前処理(自然酸化膜除去等)装置、超高真空装置他

コンポーネント

真空ポンプ(ドライポンプ、油回転ポンプ、メカニカルブースタポンプ、油拡散ポンプ、スパッタイオンポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ)、各種真空計、ヘリウムリークディテクタ、各種ガス分析計、分光エリプソメータ、各種電源、成膜コントローラ、各種真空バルブ、各種真空部品(導入端子、真空覗き窓、真空用マニピュレータ他)、真空搬送ロボット・真空搬送プラットフォーム他

一般産業用装置

真空溶解炉、真空熱処理炉、真空焼結炉、真空ろう付炉、凍結真空乾燥装置、真空蒸留装置、ヘリウムリークテスト装置他

真空応用事業

材料

スパッタリングターゲット材料、蒸着材料、チタン・タンタル加工品、高融点活性金属(Ta、Nb、W、Mo)、表面処理、超微粒子(ナノメタルインク)他

その他

オージェ電子分光分析装置、X線光電子分光分析装置、二次イオン質量分析装置、半導体・FPD用マスクブランクス、受託成膜加工他

 なお、上記の真空機器事業と真空応用事業の区分と「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等 (1)連結財務諸表 注記事項(セグメント情報等)」に掲げるセグメントの区分は同一であります。


 また、当社企業集団の主要製品の概要は、次のとおりであります。

主要製品

概要

スパッタリング装置

真空中で金属やシリサイドなどの金属の材料に、高エネルギーのアルゴン原子をぶつけ、それに叩かれ飛び出してくる金属原子を付着させて成膜する装置。

CVD装置

つくる薄膜の種類に応じて原料をガス状態で供給し、下地膜の表面における化学触媒反応によって膜を堆積させる装置。

エッチング装置

真空中に被エッチング材料を入れ、その材料に合わせてエッチングガスを導入しプラズマ化し、エッチング種が被エッチング材料に吸着されると表面化学反応を起こし、エッチング生成物を排気除去する装置。

真空蒸着装置

真空中で特定の物質を熱し、そこから蒸発する原子や分子をより温度の低い面に凝縮させて、表面に膜を形成する装置。

真空熱処理炉

真空中で各種金属の焼入、ろう付、焼戻、容体化、時効、磁性処理等を行う装置。

  以上のような装置により、携帯電話、スマートフォン、PC、タブレットPC、携帯音楽プレイヤー、太陽電池、デジタル家電、薄型テレビ、自動車等の最終製品を構成するエレクトロニクス部品等が生み出されております。

また、主な各々の事業区分ごとの事業の流れは以下のとおりです。

 

(画像は省略されました)

3【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】

(1)経営成績等の状況の概要

 当連結会計年度における当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー(以下「経営成績等」という。)の状況の概要は次のとおりであります。

 

①財政状態及び経営成績の状況

当連結会計年度におけるわが国経済は、輸出や生産の一部に弱さもみられるものの設備投資が増加するなど、緩やかに回復してきました。米国では、個人消費や設備投資の増加などにより景気の回復が続いてきました。欧州では、消費が緩やかに増加するなど、景気は緩やかに回復してきました。中国では、各種政策効果もあり景気の持ち直しの動きが続いてきましたが、このところ消費、輸出の伸びが低下するなど緩やかに減速してきました。

当社グループを取り巻くエレクトロニクス市場においては、データセンター向けサーバー需要の増加等によるメモリ需要の拡大を受け、半導体メモリメーカーの設備投資が継続してきましたが、足元では需要の鈍化等により新規設備投資延期の動きが出ております。しかしながら、中長期的にはスマート社会の進展に向けた投資が活発化するものとみられます。一方、フラットパネルディスプレイ(FPD)業界においては、テレビ用パネルの大型化、高精細化に伴う大型液晶パネル製造向けの設備投資が中国を中心として継続しました。また、スマートフォン向け有機ELパネルの設備投資は韓国での投資抑制はあるものの、他地域での設備投資は継続しました。

その結果、当連結会計年度につきましては、受注高は2,185億47百万円(前年同期比244億33百万円(10.1%)減)、売上高は2,207億21百万円(同285億50百万円(11.5%)減)となりました。また、損益面では、営業利益は238億28百万円(同115億23百万円(32.6%)減)、経常利益は255億75百万円(同113億32百万円(30.7%)減)となり、親会社株主に帰属する当期純利益は186億65百万円(同172億39百万円(48.0%)減)となりました。

 

企業集団の事業セグメント別状況は次のとおりであります。

 

「真空機器事業」

真空機器事業を品目別に見ますと下記のとおりです。

 

(FPD及びPV製造装置)

FPD製造装置は、中国を中心としたテレビ向け大型液晶製造装置やスマートフォン向け有機EL製造装置などの受注を計上しましたが、受注高、売上高ともに前年同期を下回りました。

 

(半導体及び電子部品製造装置)

半導体関連は、NANDフラッシュメモリやDRAM、次世代不揮発性メモリ向けスパッタリング装置や自然酸化膜除去装置などが、足元のメモリ関連投資の減速を受け、受注高、売上高ともに前年同期を下回りました。

電子部品関連は、モバイル機器向け高機能デバイスやパワー半導体向け製造装置が堅調に推移しました。

 

(コンポーネント)

有機EL製造装置に搭載するクライオポンプをはじめ、FPD、半導体、電子部品業界や自動車関連向け真空ポンプ、計測機器が堅調に推移し、受注高、売上高ともに前年同期を上回りました。

 

(一般産業用装置)

自動車部品製造用真空熱処理炉や漏れ検査装置などを中心に売上高は前年並みとなりました。一方、受注高は中国における高機能磁石製造用投資の延期等もあり、前年同期を下回りました。

 

その結果、真空機器事業の受注高は1,850億77百万円、受注残高は902億17百万円、売上高は1,876億98百万円となり、208億19百万円の営業利益となりました。

 

「真空応用事業」

真空応用事業を品目別に見ますと下記のとおりです。

 

(材料)

主に液晶ディスプレイ用スパッタリングターゲットを中心に受注、売上を計上しましたが、韓国における装置稼働の低下等の影響を受け、受注高、売上高ともに前年同期を下回りました。

 

(その他)

マスクブランクス関連は、高精細、高機能ディスプレイパネルや車載及び産業用半導体需要の増加を受け堅調に推移し、また、表面分析機器関連も寄与し、受注高、売上高ともに前年同期を上回りました。

 

その結果、真空応用事業の受注高は334億71百万円、受注残高は61億82百万円、売上高は330億23百万円となり、29億86百万円の営業利益となりました。

 

なお、上記金額には消費税等は含まれておりません。

 

 また、当連結会計年度の財政状態は以下のとおりとなりました。

  当連結会計年度末の資産合計は、前連結会計年度末に比べ151億16百万円減少し、2,823億2百万円となりました。主な要因は、投資有価証券が117億64百万円減少したこと、受取手形及び売掛金が100億40百万円減少したこと、一方で、繰延税金資産が28億65百万円増加したことなどであります。

  負債合計は、前連結会計年度末に比べ186億34百万円減少し、1,247億14百万円となりました。主な要因は、支払手形及び買掛金が148億18百万円減少したこと、短期借入金が66億24百万円減少したこと、一方で、長期借入金が65億19百万円増加したことなどであります

  純資産合計は、前連結会計年度末に比べ35億19百万円増加し、1,575億88百万円となりました。主な要因は、利益剰余金が137億47百万円増加したこと、一方で、その他の包括利益累計額が103億85百万円減少したことなどであります。

  以上の結果、当連結会計年度末の自己資本比率は、53.5%となりました。

  なお、「『税効果会計に係る会計基準』の一部改正」(企業会計基準第28号 平成30年2月16日)等を当連結会計年度の期首から適用しており、財政状態については遡及処理後の前連結会計年度末の数値で比較を行っております。

 

②キャッシュ・フロ-の状況

当連結会計年度末における現金及び現金同等物の残高は、前連結会計年度末に比べ15億11百万円増加し、558億59百万円となりました。各キャッシュ・フローの状況とそれらの要因は以下のとおりです。

(営業活動によるキャッシュ・フロー)

   税金等調整前当期純利益、減価償却費、売上債権の減少などのプラス要因に対し、仕入債務の減少、たな卸資産の増加などのマイナス要因により、182億82百万円の収入(前期は190億86百万円の収入)となりました。

(投資活動によるキャッシュ・フロー)

   研究開発投資や設備投資の増加により、有形及び無形固定資産の取得による支出が前期を大きく上回る水準となった一方で、投資有価証券の売却による収入などもあり、94億48百万円の支出(前期は15億64百万円の支出)となりました。

(財務活動によるキャッシュ・フロー)

  短期借入金の減少、配当金の支払、長期借入金の増加などにより、58億44百万円の支出(前期は107億34百万円の支出)となりました。

 

 

③生産、受注及び販売の実績

a.生産実績

 当連結会計年度における生産実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。

セグメントの名称

生産高

(百万円)

前年同期比

(%)

真空機器事業

195,541

86.6

真空応用事業

33,224

101.7

合計

228,765

88.5

 (注)1.金額は、販売価格をもって表示しております。

2.上記の金額には、消費税等は含んでおりません。

b.受注実績

 当連結会計年度における受注実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。

セグメントの名称

受注高

(百万円)

前年同期比

(%)

受注残高

(百万円)

前年同期比

(%)

真空機器事業

185,077

88.3

90,217

95.8

真空応用事業

33,471

100.6

6,182

106.4

合計

218,547

89.9

96,398

96.4

 (注)上記の金額には、消費税等は含んでおりません。

c.販売実績

 当連結会計年度における販売実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。

セグメントの名称

販売高

(百万円)

前年同期比

(%)

真空機器事業

187,698

86.6

真空応用事業

33,023

101.2

合計

220,721

88.5

 (注)1.セグメント間の取引については相殺消去しております。

2.主な品目別販売実績及び当該販売実績に対する割合は次のとおりであります。

セグメントの名称

品目

当連結会計年度

販売高

(百万円)

割合

(%)

真空機器事業

FPD及びPV製造装置

86,751

46.2

半導体及び電子部品製造装置

43,327

23.1

コンポーネント

34,229

18.2

一般産業用装置

23,391

12.5

187,698

100.0

真空応用事業

材料

14,372

43.5

その他

18,651

56.5

33,023

100.0

3.上記の金額には、消費税等は含んでおりません。

 

(2)経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容

 経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりであります。

  なお、文中の将来に関する事項は、本「有価証券報告書」提出日現在において当社グループが判断したものであります。

 

①重要な会計方針及び見積り

  当社グループの連結財務諸表は、我が国において一般に公正妥当と認められる会計基準に基づき作成されております。この連結財務諸表作成にあたって採用された重要な会計方針及び見積りについては、「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等 (1) 連結財務諸表 注記事項 (連結財務諸表作成のための基本となる重要な事項)」に記載のとおりであります。

  なお、連結財務諸表の作成にあたっては、資産・負債及び収益・費用の報告金額及び開示情報に影響を与える見積り及び予測が必要となります。当社グループは、過去の実績や状況などを勘案し合理的な判断のもと継続的に見積り及び予測を行っておりますが、実際の結果は、見積り特有の不確実性により、これらの見積りと異なる場合があります。

 

②当連結会計年度の経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容

a.経営成績等

当社グループの当連結会計年度の経営成績については、売上高は、2,207億21百万円(前連結会計年度比11.5%減)となりました。主力のFPD・PV製造装置においては、大型TV向けLCD装置の商談が一巡し当社客先のOLED投資も来年度を見込むことから前年度を下回る水準となりました。半導体・電子部品製造装置においては過年度にメモリ各社が活発な投資を行いましたが供給過剰となり価格が下落、各社が投資を延期したため、半導体製造装置の売上高が減少しました。

営業利益率は10.8%(前連結会計年度比3.4ポイント減)となり、前年度を下回りました。これは主に、利益率の高い半導体・電子部品製造装置の売上高が減少したこと、貸倒引当金繰入額や研究開発費の増加などにより販売費及び一般管理費が増加したことが要因です。

なお、研究開発費の売上高に対する比率は前連結会計年度から0.8ポイント増加し4.2%となりましたが、研究開発費の総額は前連結会計年度から9億16百万円増加しており、将来の成長に向けた投資を引き続き強化しております。

 

経営方針・経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等については、当社グループでは売上高、営業利益、営業利益率を中期経営計画上の財務モデルにおける指標として使用しております。

中期経営計画で掲げる「経営基盤の強化」や「重点戦略」などの計画骨子に変更はありませんが、当社グループを取り巻く市場環境も踏まえて、2019年8月7日に2020年6月期を想定した新しい数値目標を売上高2,050億円、営業利益225億円(営業利益率11.0%)と設定いたしました。

このような状況のもと、昨年発表した2023年6月期の数値目標である売上高3,000億円(営業利益率16.0%)の財務モデルの達成に向けて、「第2 事業の状況 1 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等(3)対処すべき課題等」に記載した施策により、中長期の視点で更なる成長を目指してまいります。

 

セグメントごとの経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりであります。

なお、セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益に対応しております。

 

・真空機器事業

当セグメントの当連結会計年度における事業環境は、「第2 事業の状況 3 経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析 (1) 経営成績等の状況の概要 ① 財政状態及び経営成績の状況」に記載のとおりであります。当セグメントの当連結会計年度における売上高は、前連結会計年度比13.4%減の1,876億98百万円となりました。FPD及びPV製造装置では大型TV向け液晶製造装置の投資案件の翌期へのずれ込みにより売上高が前年度を下回りました。半導体及び電子部品製造装置においても、メモリ各社の投資の延期の影響を受け売上高が前年度を下回りました。一般産業用装置については前年度並みの売上高となりましたが、コンポーネントではクライオポンプ、真空ポンプ、計測器が堅調に推移し売上高は前年度を上回りました。

セグメント利益率については、当連結会計年度は11.1%と、前連結会計年度の15.0%から悪化しました。利益率の高い半導体・電子部品製造装置の売上高減少と研究開発費等の増加による販売費及び一般管理費の増加が主な要因であります。

 

・真空応用事業

当セグメントの当連結会計年度における事業環境は、「第2 事業の状況 3 経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析 (1) 経営成績等の状況の概要 ① 財政状態及び経営成績の状況」に記載のとおりであります。当セグメントの当連結会計年度における売上高は、前連結会計年度比1.2%増の330億23百万円となりました。マスクブランクス関連で、高精細、高機能ディスプレイパネルや車載及び産業用半導体需要の増加向け売上高が増加いたしました。

セグメント利益率については、当連結会計年度は9.0%と、前連結会計年度の9.1%と同等となりました。

 

財政状態の分析は「第2 事業の状況 3 経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析 (1) 経営成績等の状況の概要 ① 財政状態及び経営成績の状況」に記載のとおりであります。

 

b.資本の財源及び資金の流動性

 当連結会計年度のキャッシュ・フローの状況は「第2 事業の状況 3 経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析 (1) 経営成績等の状況の概要 ② キャッシュ・フローの状況」に記載のとおりであります。

 当社グループの主な資金需要は、新たな成長戦略の足がかりとなる研究開発投資や設備投資、事業により生じる運転資金によるものであります。これらの資金需要につきましては、営業活動によるキャッシュ・フロー及び金融機関からの借入金等で対応していくこととしております。

 

(セグメント情報等)

【セグメント情報】

1.報告セグメントの概要

 当社の報告セグメントは、当社の構成単位のうち分離された財務情報が入手可能であり、最高経営意思決定機関が経営資源の配分の決定及び業績を評価するために、定期的に検討を行う対象となっているものであります。

 当社は、事業構成単位(ビジネスユニット)を基礎とした製品・サービス別のセグメントから構成されており、「真空機器事業」及び「真空応用事業」を報告セグメントとしております。

 「真空機器事業」は、液晶ディスプレイ用スパッタリング装置、有機EL製造装置、太陽電池製造装置、半導体製造用スパッタリング装置、巻取式真空蒸着装置、真空ポンプ、計測器などの製品から構成されており、これらの開発・製造・販売・保守サービスなどを行っております。

 「真空応用事業」は、スパッタリングターゲット材料、制御システム関連、分析機器関連などの真空を応用した製品から構成されており、これらの開発・製造・販売・保守サービスなどを行っております。

 

2.報告セグメントごとの売上高、利益又は損失、資産その他の項目の金額の算定方法

 報告されている事業セグメントの会計処理の方法は、「連結財務諸表作成のための基本となる重要な事項」における記載と概ね同一であります。

 報告セグメントの利益は、営業利益ベースの数値であります。

 セグメント間の内部収益及び振替高は市場実勢価格に基づいております。

 

3.報告セグメントごとの売上高、利益又は損失、資産その他の項目の金額に関する情報

前連結会計年度(自 2017年7月1日 至 2018年6月30日)

 

 

 

 

(単位:百万円)

 

報告セグメント

調整額

(注)1

連結財務諸表

計上額

(注)2

 

真空機器事業

真空応用事業

売上高

 

 

 

 

 

外部顧客への売上高

216,652

32,619

249,271

249,271

セグメント間の内部売上高又は

振替高

2,822

1,786

4,607

4,607

219,474

34,405

253,878

4,607

249,271

セグメント利益

32,411

2,957

35,368

17

35,351

セグメント資産

237,918

37,112

275,030

22,388

297,418

その他の項目

 

 

 

 

 

減価償却費

5,165

1,378

6,543

2

6,541

有形固定資産及び無形固定資産の増加額

11,195

1,731

12,925

12,925

(注)1.調整額は、以下のとおりであります。

(1)売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。

(2)セグメント資産の調整額は、長期投資資産(投資有価証券)等であります。

2.セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。

 

当連結会計年度(自 2018年7月1日 至 2019年6月30日)

 

 

 

 

(単位:百万円)

 

報告セグメント

調整額

(注)1

連結財務諸表

計上額

(注)2

 

真空機器事業

真空応用事業

売上高

 

 

 

 

 

外部顧客への売上高

187,698

33,023

220,721

220,721

セグメント間の内部売上高又は

振替高

3,445

1,718

5,163

5,163

191,143

34,740

225,884

5,163

220,721

セグメント利益

20,819

2,986

23,805

24

23,828

セグメント資産

232,409

39,420

271,830

10,472

282,302

その他の項目

 

 

 

 

 

減価償却費

5,575

1,373

6,948

11

6,938

有形固定資産及び無形固定資産の増加額

10,370

2,380

12,750

12,750

(注)1.調整額は、以下のとおりであります。

(1)売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。

(2)セグメント資産の調整額は、長期投資資産(投資有価証券)等であります。

2.セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。

 

【関連情報】

前連結会計年度(自  2017年7月1日  至  2018年6月30日)

1.製品及びサービスごとの情報

 製品及びサービスの区分が報告セグメントの区分と同一のため、記載を省略しております。

 

2.地域ごとの情報

(1)売上高

(単位:百万円)

日本

中国

韓国

その他

合計

74,808

95,019

38,304

41,140

249,271

 (注)売上高は顧客の所在地を基礎とし、国又は地域に分類しております。

 

(2)有形固定資産

(単位:百万円)

日本

その他

合計

49,820

14,478

64,297

 

3.主要な顧客ごとの情報

特定の顧客への売上高で、連結損益計算書の売上高の10%以上を占めるものがないため、記載を省略しております。

 

当連結会計年度(自  2018年7月1日  至  2019年6月30日)

1.製品及びサービスごとの情報

 製品及びサービスの区分が報告セグメントの区分と同一のため、記載を省略しております。

 

2.地域ごとの情報

(1)売上高

(単位:百万円)

日本

中国

韓国

その他

合計

85,662

72,755

23,717

38,588

220,721

 (注)売上高は顧客の所在地を基礎とし、国又は地域に分類しております。

 

(2)有形固定資産

(単位:百万円)

日本

その他

合計

51,813

13,874

65,687

 

3.主要な顧客ごとの情報

特定の顧客への売上高で、連結損益計算書の売上高の10%以上を占めるものがないため、記載を省略しております。

 

【報告セグメントごとの固定資産の減損損失に関する情報】

前連結会計年度(自  2017年7月1日  至  2018年6月30日)

該当事項はありません。

 

当連結会計年度(自  2018年7月1日  至  2019年6月30日)

 

 

 

(単位:百万円)

 

真空機器事業

真空応用事業

合計

減損損失

331

331

 

【報告セグメントごとののれんの償却額及び未償却残高に関する情報】

前連結会計年度(自  2017年7月1日  至  2018年6月30日)

該当事項はありません。

 

当連結会計年度(自  2018年7月1日  至  2019年6月30日)

該当事項はありません。

 

【報告セグメントごとの負ののれん発生益に関する情報】

前連結会計年度(自  2017年7月1日  至  2018年6月30日)

該当事項はありません。

 

当連結会計年度(自  2018年7月1日  至  2019年6月30日)

該当事項はありません。

2【事業等のリスク】

当社グループの業績、財務状況等に影響を及ぼす可能性のある主なリスク要因は、以下のとおりです。なお、本文中の将来に関する事項は、本「有価証券報告書」の提出日現在において当社グループで判断したものであります。

①FPD、半導体及び電子部品の市場変動による影響

当社グループは、特にFPD、半導体及び電子部品などの製造工程で使われる真空装置の分野において、独自技術の開発を行って市場投入することにより、同分野におけるシェアを獲得して成長してまいりました。その反面、当社グループの取引先であるFPDメーカー、半導体及び電子部品メーカーの設備投資の大幅な縮小が発生した場合や取引先である顧客の財務状況が悪化した場合には、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。

②研究開発による影響

当社グループは、積極的な研究開発投資を継続して行うことにより、最先端技術を使用した新製品を市場に投入し続けてきました。しかしながら、開発の著しい遅延が余儀なくされ、新製品の市場への投入の遅れが生じた場合、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。

③外国為替変動による影響

当社グループの海外売上高比率は高いため、原則として円建取引をしております。しかしながら、当該円建取引では、円高時において価格競争力の面で海外メーカーと比較して不利となることがあります。また、例外的に外貨建取引を行った場合においては、急激な為替変動による為替リスクが生じる可能性があります。これらの要因により、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。

④品質に関する影響

当社グループは、ISO9001の認証取得を含む品質保証体制を確立し、高レベルのサービスを提供し続けてきました。しかしながら、常に先端技術を利用した製品を提供していることから、開発的要素も多く、予期せぬ不良が発生し、多額の追加原価の発生や信頼低下による売上高減少を招いた場合、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。

⑤知的財産権に関する影響

当社グループは、各種真空装置に関する多数の特許を保有し、積極的に新規権利獲得にも努めています。同時に、当社グループの製品に関する第三者の特許調査も行っております。しかしながら、第三者から不測の特許侵害訴訟が提起された場合、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。

⑥資金調達に関する影響

当社グループの借入金にかかる金融機関との契約には、財務制限条項が付されているものがあります。当該財務制限条項に抵触し資金調達に支障が生じた場合には、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。

⑦訴訟等に係るリスク

当社グループの営む事業に関連して、国内外の訴訟等の対象となるリスクが存在しており、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。

⑧法令、規制に関する影響

当社グループは、グローバルに事業を展開する上で、各国・各地域において、輸出入規制、環境規制、移転価格税制といった各種法令、規制の制約を受けており、その遵守に努めております。しかしながら、予期せぬ法令、規制の強化、改正が生じたことにより、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。

⑨その他リスク

当社グループと同様にグローバルな事業展開や広範な事業展開をしている企業と同じく、各国または各地域における経済環境、自然災害、戦争、テロ、感染症等の諸般の不可抗力要因が、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響を及ぼす可能性があります。

 

2【沿革】

 当社は、1952年米国NRC Equipment Corporationと技術提携を前提とした総代理店契約を結び各種真空装置の輸入販売を目的として創業いたしました。

 創業後の主要事項は次のとおりであります。

年月

主要事項

1952年8月

各種真空装置の輸入販売を目的として、日本真空技術株式会社(資本金6百万円)を創業。

1955年4月

大森工場を新設し、国産装置の製造に着手。

1956年11月

株式会社東洋精機真空研究所を合併し、尼崎工場として真空化学装置及び真空ポンプ等の規格品の製造に着手。

1959年4月

本社及び大森工場を横浜市に移転。

1961年7月

真空技術の基本を応用し、真空冶金事業を開始。

1962年9月

真空材料株式会社(商号変更 アルバックマテリアル㈱)を設立、耐火材料の販売を開始。

1962年10月

熱分析機器の専門メーカーとして真空理工株式会社(現・アドバンス理工㈱)を設立。

1963年10月

新生産業株式会社(1929年9月20日創立)に吸収合併されると共に、同日社名を日本真空技術株式会社と改称し、旧日本真空技術株式会社の事業内容を継続。

1964年1月

外国事業部リライアンス部を分離し、米国Reliance Electric and Engineering Co.と共同出資で日本リライアンス株式会社を設立。

1964年7月

香港万豊有限公司と共同出資で合弁会社Hong Kong ULVAC Co.,Ltd.を設立。

1966年4月

真空冶金事業部を分離し、真空冶金株式会社を設立。

1968年5月

本社及び横浜工場を茅ヶ崎市に移転。

1970年7月

専売特約店の三和アルバック販売株式会社(商号変更 アルバック東日本㈱)を設立。

1971年7月

小型真空ポンプの専門メーカーとして真空機工株式会社(現・アルバック機工㈱)を設立。

1972年7月

超材料研究所を千葉県に新設。

1975年12月

対米輸出の拠点として北米に現地法人ULVAC North America Corp.(現・ULVAC Technologies,Inc.)を設立。

1977年1月

九州地区の営業活動の拡大のために九州アルバック株式会社(現・アルバック九州㈱)を設立。

1979年1月

サービス事業部を分離し、アルバックサービス株式会社を設立。

SI事業部を分離し、アルバック成膜株式会社を設立。

1981年10月

米国Helix Technology Corp.と共同出資でアルバック・クライオ株式会社を設立。

1982年1月

台湾台北市にULVAC TAIWAN Co.,Ltd.(現・ ULVAC TAIWAN INC.)を設立。

1982年11月

米国The Perkin Elmer Corp.と共同出資でアルバック・ファイ株式会社を設立。

1982年12月

茨城県筑波学園都市(現つくば市)市内に筑波超材料研究所を設立。

1983年2月

中国北京市に北京事務所を開設。

1985年3月

核融合臨界プラズマ実験装置「JT-60」の真空排気系を納入。

1985年4月

関西の拠点工場としてアルバック精機株式会社を設立。

1987年1月

大型装置の生産体制強化のため、青森県八戸市に東北真空技術株式会社(現・アルバック東北㈱)を設立。

1987年2月

欧州地区のサービス体制強化のため、西独にULVAC GmbHを設立。

1987年5月

グループ会社支援のため、株式会社アルバック・コーポレートセンターを設立。

1987年9月

英文社名をULVAC JAPAN,Ltd.と変更。

1988年10月

真空ポンプの量産体制確立のため、鹿児島に九州真空技術株式会社を設立。

1990年5月

半導体製造装置の生産体制強化のため静岡県裾野市に富士裾野工場を新設。

1991年12月

九州真空技術㈱がアルバック精機㈱を合併し、アルバック精機㈱に商号変更。

1992年4月

資本金12億10百万円より38億30百万円に増資。

1992年6月

資本金38億50百万円に増資。

1994年10月

アルバックサービス㈱がアルバックマテリアル㈱を合併し、アルバックテクノ㈱に商号変更。

1995年5月

韓国ソウル市に、ULVAC KOREA,Ltd.を設立。

1995年9月

中国に寧波中策動力機電集団有限公司と合弁で寧波愛発科真空技術有限公司を設立。

1996年11月

真空装置の生産能力拡充のため、東北真空技術㈱、アルバック九州㈱鹿児島事業所にクリーン工場を増設。

 

 

年月

主要事項

1998年1月

シンガポールCSセンター、台湾新竹R&Dセンターを開設し、アジアのネットワークを拡大。

2000年4月

台北五股サービスセンターを開設。

2000年8月

ULVAC KOREA,Ltd.に生産工場として平澤工場を設置。

2001年5月

寧波愛発科真空技術有限公司に新工場を設置。

2001年7月

株式会社アルバック(英文社名ULVAC,Inc.)に商号変更。

2001年11月

カスタマーサポート強化のためULVAC TAIWAN INC.桃園CIP工場を設置。

2002年1月

カスタマーサポート体制の充実のためULVAC SINGAPORE PTE LTDを設立。

2002年7月

アルバック東日本㈱が高山アルバック㈱を合併し、アルバック イーエス㈱(現・アルバック販売㈱)に商号変更。

2002年12月

米国Physical Electronics USA,Inc.が保有するアルバック・ファイ㈱株式(50%)を取得し、100%子会社化。

2003年3月

米国RELIANCE ELECTRIC COMPANYより日本リライアンス㈱株式(31%)を取得し、持分を81%に引き上げ。

2003年5月

アルバック東北㈱、アルバックテクノ㈱、UMAT㈱による機械加工、表面処理、精密洗浄の一貫工場を東北に設置。

2003年7月

中国における本格的生産工場とCSソリューション工場として愛発科真空技術(蘇州)有限公司を設立。

2003年8月

工業用インクジェット装置を製造・販売しているLitrex Corporationの株式50%を取得。

2004年4月

東京証券取引所市場第1部に株式を上場。
資本金38億50百万円より81億円に増資。

2004年5月

資本金81億円より89億50百万円に増資。

2004年7月

韓国にULVAC KOREA,Ltd.とアルバック東北㈱が共同出資で大型基板真空用部品の製造を目的としたUlvac Korea Precision,Ltd.を設立。

韓国にULVAC KOREA,Ltd.と真空冶金㈱が共同出資で成膜装置用部品の表面処理を目的としたPure Surface Technology,Ltd.を設立。

2004年8月

中国に日本リライアンス㈱、啓電実業股份有限公司と共同出資で制御盤及び自動制御駆動装置の製造、販売を目的とした愛発科啓電科技(上海)有限公司を設立。

2004年12月

資本金89億50百万円より134億68百万円に増資。

2005年1月

中国にアルバック機工㈱と江蘇宝驪集団公司と共同出資で真空ポンプ用部品の製造、販売を目的とした愛発科天馬電機(靖江)有限公司を設立。
中国に沈陽中北真空技術有限公司と共同出資で真空炉の製造、販売を目的とした愛発科中北真空(沈陽)有限公司を設立。
成都東方愛発科真空技術有限公司を子会社化し、愛発科東方真空(成都)有限公司に商号変更。

2005年4月

真空冶金㈱がUMAT㈱を合併し、アルバックマテリアル㈱に商号変更。
フラットパネルディスプレイ事業拡大のため、富士通ヴィエルエスアイ㈱より設備事業譲受。

2005年6月

ULVAC KOREA,Ltd.に生産拡大のため玄谷工場を増設。

アルバック機工㈱宮崎事業所に小型真空ポンプの評価、検証を目的とした信頼性評価センターを設置。

2005年11月

英国Cambridge Display Technology Limitedが保有するLitrex Corporation株式(50%)を取得し100%子会社化。

タイに販売やフィールドサポートを目的としたULVAC (THAILAND) LTD.を設立。

2005年12月

台湾にフラットパネルディスプレイ製造装置などの製造を目的としたULVAC Taiwan
Manufacturing Corporationと、部品加工や部品洗浄などフィールドサポートを目的とした
ULTRA CLEAN PRECISION TECHNOLOGIES CORP.を設立。

2006年3月

中国における子会社の管理統括等を目的とした愛発科(中国)投資有限公司を設立。

2006年4月

台湾に制御盤等の製造を目的としたULVAC AUTOMATION TAIWAN Inc.を設立。

2006年7月

韓国に研究開発を目的としたULVAC Research Center KOREA,Ltd.を設立。

 

台湾に研究開発を目的としたULVAC Research Center TAIWAN,Inc.を設立。

2006年8月

精密ステージを製造・販売しているシグマテクノス㈱の株式(70%)を取得。

 

マレーシアに販売やフィールドサポートを目的としたULVAC MALAYSIA SDN.BHD.を設立。

 

 

年月

主要事項

2006年9月

神奈川県茅ヶ崎市に真空装置部品の表面処理を目的とした、アルバックテクノ㈱ケミカルセンターを新設。

 

宮崎県西都市に小型真空ポンプの生産集約化を目的として、アルバック機工㈱宮崎事業所を増 設。

2006年11月

愛知県春日井市にフラットパネルディスプレイ製造装置の生産能力拡充のため、愛知工場を新設。

2007年6月

インドビジネス拡大のため、ULVAC,Inc.India Branch.を設立。

2007年9月

埼玉県日高市に大型の精密ステージの製造・販売するためシグマテクノス㈱本社工場を新設。

2007年11月

啓電実業股份有限公司の持株譲渡に伴い愛発科啓電科技(上海)有限公司を愛発科自動化科技(上海)有限公司に商号変更。

2008年2月

開発委託設計を目的としたアルバック ワイ・エム・イー㈱(商号変更  アルバックエンジニアリング㈱)を設立。

2008年7月

フィールドサポートを専門とした、アルバックヒューマンリレーションズ㈱を設立。

2008年8月

台湾における経営の合理化などを目的としてULVAC TAIWAN INC.を存続会社とし、ULVAC Taiwan Manufacturing Corporationと合併。

2008年8月

韓国にスパッタリングターゲットの製造及びボンディングを目的とした、ULVAC Materials Korea,Ltdを設立。

2008年10月

スパッタリングターゲット材の効率的な生産と開発体制の強化を目的として、アルバックマテリアル㈱から当社へ事業を移し、洗浄事業のサポート体制の充実を目的として、アルバックテクノ㈱とアルバック九州㈱へ事業譲渡。

2009年4月

中国にスパッタリングターゲットの製造及びボンディングを目的とした、愛発科電子材料(蘇州)有限公司を設立。

2009年4月

中国にタッチパネルの製造などを目的とした愛発科豪威光電薄膜科技(深圳)有限公司を設立。

2009年6月

ディスプレイ事業を東アジアで機動的に事業展開するため、Litrex Corporationを解散し、当社にて同事業を継続。

2009年12月

中国に研究開発を目的とした愛発科(蘇州)技術研究開発有限公司を設立。

2010年1月

資本金134億68百万円より208億73百万円に増資。

2010年3月

研究開発強化のため、富里工業団地に千葉超材料研究所を新設移設。

2010年10月

当社がアルバックマテリアル㈱を吸収合併、アルバック九州㈱のサービス、洗浄、表面処理事業をアルバックテクノ㈱に事業譲渡。また、アルバック九州㈱がアルバック精機㈱を吸収合併。

2011年7月

韓国の研究開発強化のため、ULVAC Research Center KOREA,Ltd.を解散し、ULVAC KOREA,Ltd.の付属研究所として韓国超材料研究所を設立。

2012年6月

㈱アルバック・コーポレートセンターを解散し、当社にて同事業を継続。

2012年7月

販売体制強化のため、アルバック イーエス㈱をアルバック販売㈱に商号変更。

2012年9月

2013年10月

2014年5月

2014年6月

2014年12月

2015年1月

2016年12月

シグマテクノス㈱を解散。

日本リライアンス㈱の一部株式(80%相当)を㈱高岳製作所へ譲渡。

ULVAC Research Center TAIWAN,Inc.を解散し、ULVAC TAIWAN INC.にて同事業を継続。

中国に輸入部品の保税扱いでの仕入れ、販売のため、愛発科真空設備(上海)有限公司を設立。

アルバック理工㈱(現・アドバンス理工㈱)の全株式を㈱チノーへ譲渡。

アルバックエンジニアリング㈱を解散。

沈陽中北真空技術有限公司が保有する愛発科中北真空(沈陽)有限公司の株式(25%)を取得し、100%子会社化。

2017年9月

100%子会社化に伴い、愛発科中北真空(沈陽)有限公司愛発科真空技術(沈陽)有限公司に商号変更。

2018年7月

中国にフラットパネルディスプレイ用マスクブランクス事業の生産、販売を目的とした愛発科成膜技術(合肥)有限公司を設立。

2018年10月

2019年1月

寧波愛発科真空技術有限公司が第三者割当増資を実施。

日本リライアンス㈱を㈱REJに商号変更。

(5)【所有者別状況】

 

 

 

 

 

 

 

(2019年6月30日現在)

区分

株式の状況(1単元の株式数100株)

単元未満

株式の状況

(株)

政府及び地方公共団体

金融機関

金融商品

取引業者

その他の

法人

外国法人等

個人その他

個人以外

個人

株主数(人)

50

38

207

287

33

15,821

16,436

所有株式数

(単元)

182,656

20,892

23,037

181,561

342

84,815

493,303

25,638

所有株式数の割合(%)

37.03

4.24

4.67

36.81

0.07

17.19

100.00

(注)1.自己株式3,522株は、「個人その他」に35単元及び「単元未満株式の状況」に22株を含めて記載しております。

2.「金融機関」には、株式給付信託(BBT)が保有する当社株式67,000株(670単元)が含まれております。

 

3【配当政策】

 当社は、株主の皆様への利益配分を最も重要な政策の一つと認識しております。

 設備投資動向の変動・技術革新の著しい業界にあり、当社はさらなる研究開発投資や財務基盤の強化に必要な内部留保の充実を図っていく所存です。株主の皆様への利益配当については、こうした財務基盤の状況や各年度の連結業績及び配当性向等を総合的に勘案し、実施してまいります。

 当社は、期末配当による年1回の剰余金の配当を行うことを基本方針としております。この剰余金の配当の決定機関は株主総会であります。

 当期の配当につきましては上記の方針に基づき、1株につき105円と決定いたしました。

 

(注)基準日が当事業年度に属する剰余金の配当は、以下のとおりであります。

決議年月日

株式の種類

配当金の総額(百万円)

1株当たり配当額(円)

2019年9月27日

定時株主総会

普通株式

5,182

105

(2)【役員の状況】

①役員一覧

男性 12名 女性 1名 (役員のうち女性の比率 7.69%)

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数

(千株)

代表取締役執行役員社長

兼 人財センター長

岩下 節生

1953年2月4日

 

1984年3月

当社入社

1992年8月

当社海外業務部北京事務所長兼上海事務所長

1995年9月

寧波愛発科真空技術有限公司董事総経理

1998年7月

当社アジア本部中国総部長

2006年3月

愛発科(中国)投資有限公司董事総経理

2006年10月

愛発科商貿(上海)有限公司董事長

愛発科真空技術(蘇州)有限公司董事長

2011年9月

当社取締役

2012年7月

当社取締役執行役員

2013年9月

当社常務執行役員

2015年7月

当社専務執行役員

 

愛発科(中国)投資有限公司董事長

2016年7月

当社専務執行役員経営企画室長

2016年9月

当社取締役専務執行役員経営企画室長

2017年7月

当社代表取締役執行役員社長

2019年1月

 

当社代表取締役執行役員社長兼人財センター長(現任)

 

(注)3

26

取締役執行役員副社長

経営推進センター長

(関連会社担当)

本吉  光

1957年1月1日

 

1980年4月

当社入社

1995年7月

当社超高真空事業部管理部長

1998年7月

当社経営企画室専門部長

2000年7月

当社経理部長

2005年9月

当社取締役経理部長

2010年7月

当社取締役経営企画室長

2012年7月

当社取締役執行役員経営企画室長

2013年7月

ULVAC TAIWAN INC.董事長

2014年7月

当社取締役常務執行役員経営企画室長

2015年7月

当社取締役専務執行役員経営企画室長

2017年7月

当社取締役専務執行役員事業企画本部長

愛発科商貿(上海)有限公司董事長(現任)

愛発科真空技術(蘇州)有限公司董事長(現任)

ULVAC SINGAPORE PTE LTD取締役会長(現任)

ULVAC MALAYSIA SDN. BHD.取締役会長(現任)

2018年7月

当社取締役執行役員副社長

2019年1月

愛発科(中国)投資有限公司董事長総経理(現任)

愛発科自動化科技(上海)有限公司董事長(現任)

2019年7月

当社取締役執行役員副社長

経営推進センター長

関連会社担当(現任)

愛発科天馬電機(靖江)有限公司董事長(現任)

 

(注)3

9

 

 

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数

(千株)

取締役専務執行役員

新ビジネス創成センター長

兼 アルバックテクノ株式会社

取締役会長

末代 政輔

1957年8月23日

 

1981年4月

当社入社

1992年7月

当社電子・イオン機器事業部第4技術グループ室長

1997年7月

当社電子機器事業部第1技術部長

2003年7月

当社第1FPD事業部長

2006年9月

当社取締役第1FPD事業部長

2012年7月

当社取締役執行役員グローバル生産推進本部長

2013年7月

当社取締役執行役員営業本部長

2014年6月

株式会社昭和真空社外取締役(現任)

2014年7月

当社取締役常務執行役員営業本部長

2015年7月

当社取締役専務執行役員営業本部長

2016年7月

アルバックテクノ株式会社代表取締役社長

当社専務執行役員

2019年1月

当社専務執行役員カスタマーサポート本部長

2019年7月

当社専務執行役員新ビジネス創成センター長兼アルバックテクノ株式会社取締役会長

2019年9月

当社取締役専務執行役員新ビジネス創成センター長兼アルバックテクノ株式会社取締役会長(現任)

 

(注)3

11

取締役常務執行役員

イノベーションセンター長

白 忠烈

1959年2月1日

 

1991年4月

当社入社

1999年9月

ULVAC KOREA,Ltd.入社 専務理事

2000年9月

同社代表理事社長

2012年9月

当社執行役員

2015年7月

当社常務執行役員

2016年9月

ULVAC KOREA,Ltd.理事会長(現任)

2018年7月

当社常務執行役員開発本部長

2018年9月

当社取締役常務執行役員開発本部長

2019年7月

当社取締役常務執行役員イノベーションセンター長(現任)

 

(注)3

10

 

 

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数

(千株)

取締役執行役員

財務・経理部長

青木 貞男

1962年9月5日

 

1986年4月

株式会社第一勧業銀行(現株式会社みずほ銀行)入行

2002年7月

株式会社みずほコーポレート銀行内幸町営業第五部次長

2005年4月

西武鉄道株式会社出向経営企画本部次長

2006年3月

株式会社みずほコーポレート銀行企業推進第一部企業考査役

2007年10月

同行営業第十五部チーフリレーションシップマネージャー

2009年4月

株式会社みずほ銀行企業審査第一部審査役

2011年5月

同行新宿新都心支店長

2014年12月

株式会社フォーラムエンジニアリング出向常務執行役員

2015年8月

同社入社常務取締役

2016年5月

当社入社

財務部長付専門部長

2016年7月

当社財務部長

2018年7月

当社執行役員財務部長

2019年1月

当社執行役員財務・経理部長

2019年9月

当社取締役執行役員財務・経理部長(現任)

 

(注)3

0

取締役

御林  彰

1956年3月9日

 

1978年4月

日本生命保険相互会社入社

1999年3月

同社太田支社長

2001年3月

同社首都圏財務部長

2002年3月

同社主計部長

2005年7月

同社取締役営業企画部長兼営業勤労部長兼拠点長業務改革室長

2007年1月

同社取締役執行役員業務部長兼新活動推進室長

2007年3月

 

同社取締役執行役員業務部長兼審議役(総合企画部)

2008年3月

同社常務執行役員リスク管理統括部長

2008年7月

同社取締役常務執行役員リスク管理統括部長

2009年4年

ニッセイ信用保証株式会社顧問

2009年6月

同社代表取締役社長(現任)

2010年6月

ライト工業株式会社社外監査役

2014年9月

当社社外取締役(現任)

 

(注)3

-

 

 

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数

(千株)

取締役

内田 憲男

1950年10月22日

 

1973年4月

 

東京光学機械株式会社(現株式会社トプコン)入社

1980年6月

トプコンシンガポール社ゼネラルマネジャー

1989年2月

トプコンオーストラリア社社長

1994年10月

トプコンレーザーシステムズ社(現トプコンポジショニングシステムズ社)上級副社長

1999年7月

株式会社トプコンレーザーシステムズジャパン社長

2003年6月

株式会社トプコン執行役員

2003年7月

株式会社トプコン販売(現株式会社トプコンソキアポジショニングジャパン)社長

2005年6月

株式会社トプコン取締役執行役員

2007年6月

同社取締役常務執行役員

2010年6月

同社取締役専務執行役員

2011年6月

同社代表取締役社長

2013年6月

同社相談役

2015年6月

ナブテスコ株式会社社外取締役(現任)

2015年9月

当社社外取締役(現任)

 

(注)3

-

取締役

石田 耕三

1944年11月4日

 

1970年3月

株式会社堀場製作所入社

1982年6月

同社開発・営業本部製品1部長

1988年6月

同社取締役

1991年6月

同社常務取締役

1996年6月

同社専務取締役

2002年6月

同社取締役副社長

2005年6月

同社代表取締役副社長

2011年3月

株式会社堀場エステック取締役相談役

2014年3月

株式会社堀場製作所代表取締役副会長

2016年3月

同社上席顧問

2016年9月

当社社外取締役(現任)

2017年3月

株式会社正興電機製作所社外取締役(現任)

2018年4月

株式会社堀場製作所フェロー(現任)

 

(注)3

0

 

 

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数

(千株)

取締役

中島 好美

1956年12月16日

 

1980年4月

安田信託銀行株式会社

(現 みずほ信託銀行株式会社)入行

1982年2月

エイボン・プロダクツ株式会社入社

1997年5月

シティバンクN.A.入行バイスプレジデント

2000年6月

ソシエテ・ジェネラル証券会社入社シニアジェネラルマネージャー

2002年4月

アメリカン・エキスプレス・インターナショナル,Inc.入社 日本支社グローバル トラベラーズチェック&プリペイドカードサービス担当副社長

2011年8月

同社シンガポール カントリー・マネジャー(社長)

2014年2月

同社日本支社上席副社長

2014年4月

アメリカン・エキスプレス・ジャパン株式会社代表取締役社長

2017年6月

ヤマハ株式会社社外取締役(現任)

イオンフィナンシャルサービス株式会社社外取締役(現任)

2018年6月

日本貨物鉄道株式会社社外取締役(現任)

2018年9月

当社社外取締役(現任)

 

(注)3

-

監査役

(常勤)

伊藤  誠

1961年8月21日

 

1984年4月

日本生命保険相互会社入社

2008年3月

同社本店財務第一部長兼九州財務部長

2012年3月

同社首都圏財務部長

2015年4月

当社入社

経営企画室長付顧問

2015年9月

当社常勤監査役(現任)

 

(注)6

-

監査役

(常勤)

矢作  充

1959年4月27日

 

1983年4月

当社入社

1995年7月

当社精機事業部真空ポンプ部商品開発課長

1996年7月

当社規格品事業部商品開発部1課長

1999年7月

当社規格品事業部精機技術部2課長

2004年7月

当社技術開発部第2研究部長

2011年6月

当社技術開発部長

2018年7月

当社経営企画室付参与

2018年9月

当社常勤監査役(現任)

 

(注)5

4

監査役

浅田 千秋

1949年12月3日

 

1977年4月

弁護士登録

 

第二東京弁護士会所属

1996年10月

光樹法律事務所共同設立

2001年6月

株式会社卑弥呼社外監査役

2007年9月

当社社外監査役(現任)

2012年4月

公益財団法人東京都柔道連盟監事(現任)

2014年3月

公益財団法人全日本柔道連盟評議員(現任)

2017年6月

株式会社アークン社外取締役

 

(注)6

-

 

 

役職名

氏名

生年月日

略歴

任期

所有株式数

(千株)

監査役

宇都宮 功

1964年5月11日

 

1997年4月

税理士登録

1999年7月

宇都宮功税理士事務所開設

2011年6月

東京税理士会京橋支部厚生部長

2012年6月

税理士法人築地会計代表社員(現任)

2013年6月

東京税理士会理事

2015年6月

東京税理士会理事総務部副部長

2017年6月

東京税理士会京橋支部総務部長

2017年9月

当社社外監査役(現任)

2019年6月

東京税理士会京橋支部副支部長(現任)

 

(注)4

-

 

60

(注)1.取締役御林彰、内田憲男、石田耕三、中島好美の各氏は、社外取締役であります。

2.監査役浅田千秋、宇都宮功の両氏は、社外監査役であります。

3.2019年9月27日開催の定時株主総会の終結の時から1年間

4.2017年9月28日開催の定時株主総会の終結の時から4年間

5.2018年9月27日開催の定時株主総会の終結の時から4年間

6.2019年9月27日開催の定時株主総会の終結の時から4年間

 

7.経営の意思決定及び業務監督機能と業務執行機能を分離することで、権限と責任の明確化を図り、事業環境の急激な変化に迅速かつ機動的に対応するため、執行役員制度を導入しております。

業務執行のみを行う執行役員は、以下の10名であります。

常務執行役員

製造センター長

愛発科豪威光電薄膜科技(深圳)有限公司 董事長

佐藤 重光

常務執行役員

営業・マーケティングセンター長

アルバック販売株式会社 代表取締役社長

石黒 雅彦

上席執行役員

半導体電子技術研究所長

齋藤 一也

執行役員

新ビジネス創成センター 副センター長

ULVAC TAIWAN INC. 董事長

ULTRA CLEAN PRECISION TECHNOLOGIES CORP. 董事長

蔡  有哲

執行役員

半導体装置事業部長

近藤 智保

執行役員

電子機器事業部長

島田 鉄也

執行役員

マテリアル事業部長

愛発科電子材料(蘇州)有限公司 董事長

衣川 正剛

執行役員

営業・マーケティングセンター 副センター長

愛発科真空技術(蘇州)有限公司 副董事長総経理

愛発科商貿(上海)有限公司 董事総経理

愛発科豪威光電薄膜科技(深圳)有限公司 董事総経理

愛発科真空設備(上海)有限公司 董事長総経理

曾  正明

執行役員

ULVAC Technologies, Inc. President&CEO

鄒  弘綱

執行役員

経営推進センター 経営企画室長

人財センター 副センター長

経営推進センター 法務部長

髙橋 信次

 

8.当社は、法令に定める監査役の員数を欠くことになる場合に備え、会社法第329条第3項に定める補欠監査役1名を選任しております。補欠監査役の略歴は次のとおりであります。

氏名

生年月日

略歴

所有株式数

(千株)

野中 孝男

1949年1月29日生

 

1971年4月

萬有製薬株式会社(現 MSD株式会社)入社

1982年3月

税理士登録

1982年4月

野中孝男税理士事務所開設 所長(現任)

1989年1月

株式会社メリエス代表取締役社長

1991年3月

株式会社木梨電機製作所監査役(現任)

2009年9月

当社社外監査役

2011年6月

東京税理士会京橋支部相談役(現任)

2012年5月

学校法人石田学園監事

2013年5月

学校法人石田学園理事(現任)

2013年10月

京橋税理士政治連盟相談役(現任)

2015年6月

日本税理士共済会監事(現任)

株式会社日税共済監査役(現任)

2017年2月

FITリーディンテックス株式会社監査役(現任)

 

 

社外役員の状況

当社の社外取締役は4名、社外監査役は2名です。

当社における社外取締役及び社外監査役の選任基準は、諸法令で定められる基準のみならず、企業経営者としての経験や法律や会計等の専門的知識など、社外役員としての有益な意見を期待しうる資質を重視し、かつ、公平性の観点から、当社との利害関係の有無を総合的に考慮しております。また、独立社外取締役の選任については、その意見の公正を担保すべく、当社にて定める独立性判定基準に従っております。なお、社外取締役及び社外監査役による当社株式の保有は、「①役員一覧」の所有株式数の欄に記載のとおりであります。

当社の社外取締役は次のとおりです。まず、社外取締役御林彰氏は、ニッセイ信用保証株式会社代表取締役社長です。次に、社外取締役内田憲男氏は、ナブテスコ株式会社社外取締役です。そして、社外取締役石田耕三氏は、株式会社堀場製作所フェローおよび株式会社正興電機製作所社外取締役です。さらに、社外取締役中島好美氏はヤマハ株式会社、イオンフィナンシャルサービス株式会社および日本貨物鉄道株式会社社外取締役です。内田氏、および石田氏および中島氏については、ともに一般株主との利益相反のおそれがない特に高い独立性が認められることから、株式会社東京証券取引所に対して独立役員として届け出ております。

なお、御林氏については、当社の資金借入先である日本生命保険相互会社の取締役を2009年7月まで務めておりました。2019年6月末現在、当グループにおける同社からの借入額は、5,226百万円です。日本生命保険相互会社と当社との間の取引は、保険料等がありますが、当社の売上総額に占める割合は1%未満(2019年6月期実績)です。

当社の社外監査役は次のとおりです。まず、社外監査役浅田千秋氏は弁護士です。次に、社外監査役宇都宮功氏は税理士です。浅田氏および宇都宮氏は、ともに一般株主との利益相反のおそれがない特に高い独立性が認められることから、株式会社東京証券取引所に対して独立役員として届け出ております。

 

社外取締役又は社外監査役による監督又は監査と内部監査、監査役監査及び会計監査との相互連携並びに内部統制部門との関係

社外取締役には、取締役会議案について、十分な事前説明を行うとともに、そのご要望に応じて、社外取締役としての業務遂行に必要な情報の随時提供を保障しております。また、社外監査役に対しても、取締役会での報告に加え、監査役会における常勤監査役との意見交換や会計監査人との意見交換を行うとともに、そのご要望に応じて、社外監査役としての職責遂行に必要な情報の随時提供を保障しております。また、社外取締役および社外監査役は、取締役会の諮問機関である指名報酬等委員会の構成員としてご提言をいただいております。内部監査、監査役監査及び会計監査人監査はそれぞれ独立した公正な監査を実施しつつ、各監査間での監査結果の報告、意見交換、監査立会等緊密な相互連携を行っております。

 

4【関係会社の状況】

会社名

住所

資本金又は

出資金

(百万円)

主要な事業

議決権の

所有割合(%)

関係内容

営業上の取引

役員の

兼任等

資金

援助

設備の

賃貸借

(連結子会社)

 

 

 

 

 

 

 

 

アルバック東北㈱

(注)5

青森県八戸市

498

真空機器事業

100.0

当社が販売する真空装置の製造委託等

あり

あり

あり

アルバックテクノ㈱

(注)5

神奈川県茅ヶ崎市

125

真空機器事業

100.0

当社製品の販売・カスタマーズサポート

あり

あり

あり

アルバック九州㈱

(注)5

鹿児島県霧島市

490

真空機器事業

100.0

当社が販売する真空装置の製造委託等

あり

あり

あり

アルバック機工㈱

宮崎県西都市

280

真空機器事業

100.0

同社製品の仕入

なし

なし

あり

アルバック販売㈱

(注)5.6

東京都港区

90

真空機器事業

真空応用事業

100.0

(33.0)

当社製品の販売

あり

なし

あり

ULVAC Technologies,Inc.

(注)5

米国マサチュー

セッツ州

千US$

17,580

真空機器事業

100.0

当社製品の販売・カスタマーズサポート

あり

なし

なし

ULVAC KOREA,Ltd.

(注)5

韓国平澤市

千WON

8,144,460

真空機器事業

100.0

(17.5)

当社製品の製造・販売・カスタマーズサポート

あり

あり

なし

ULVAC TAIWAN INC.

台湾新竹市

千NT$

498,000

真空機器事業

100.0

(40.0)

当社製品の製造・販売・カスタマーズサポート

あり

なし

なし

アルバック・クライオ㈱

(注)3

神奈川県茅ヶ崎市

50

真空機器事業

50.0

同社製品の仕入

あり

あり

あり

アルバック・ファイ㈱

神奈川県茅ヶ崎市

100

真空応用事業

100.0

当社からの製品の仕入

あり

あり

あり

ULVAC SINGAPORE PTE LTD

シンガポール

千SG$

8,300

真空機器事業

92.8

(37.8)

当社製品の販売・カスタマーズサポート

あり

あり

なし

愛発科真空技術(蘇州)有限公司

(注)5

中国蘇州市

千RMB

246,521

真空機器事業

100.0

(69.4)

当社が販売する真空装置の製造委託等

あり

あり

なし

愛発科東方真空(成都)有限公司

中国成都市

千RMB

85,009

真空機器事業

74.7

(30.6)

当社製品の製造・販売

あり

なし

なし

愛発科自動化科技(上海)有限公司

中国上海市

千RMB

25,817

真空応用事業

57.5

(45.0)

同社製品の仕入

あり

あり

なし

愛発科天馬電機(靖江)有限公司

中国靖江市

千RMB

24,830

真空機器事業

60.0

(20.0)

当社からの製品の仕入

あり

なし

なし

愛発科真空技術(沈陽)有限公司

中国沈陽市

千RMB

129,319

真空機器事業

100.0

(67.1)

当社製品の製造・販売

なし

なし

なし

Physical Electronics USA,Inc.

米国ミネソタ州

US$

1,000

真空応用事業

100.0

(100.0)

なし

なし

なし

ULVAC MALAYSIA SDN.BHD.

マレーシア

千RM

25,000

真空機器事業

96.0

(59.0)

当社製品の販売・カスタマーズサポート

あり

あり

なし

愛発科(中国)投資有限公司

(注)5

中国上海市

千RMB

573,000

真空応用事業

100.0

中国事業の管理業務の委託

あり

なし

なし

タイゴールド㈱

神奈川県茅ヶ崎市

99

真空応用事業

89.3

同社製品の仕入

あり

なし

あり

Ulvac Korea Precision,Ltd.

韓国平澤市

千WON

10,090,000

真空機器事業

100.0

(100.0)

なし

あり

なし

Pure Surface Technology,Ltd.

韓国平澤市

千WON

12,204,000

真空機器事業

100.0

(100.0)

当社からの製品の仕入

なし

なし

なし

ULVAC CRYOGENICS KOREA

INCORPORATED

(注)3

韓国平澤市

千WON

6,145,000

真空機器事業

50.0

(50.0)

なし

あり

なし

 

 

会社名

住所

資本金又は

出資金

(百万円)

主要な事業

議決権の

所有割合

(%)

関係内容

営業上の取引

役員の

兼任等

資金

援助

設備の

賃貸借

ULTRA CLEAN PRECISION

TECHNOLOGIES CORP.

台湾台南市

千NT$

341,000

真空機器事業

100.0

(100.0)

当社からの製品の仕入

あり

なし

なし

アルバック成膜㈱

埼玉県秩父市

100

真空応用事業

65.0

当社からの製品の仕入

あり

あり

なし

ULCOAT TAIWAN,Inc.

台湾台南市

千NT$

512,000

真空応用事業

65.0

(65.0)

なし

なし

なし

愛発科商貿(上海)有限公司

中国上海市

千RMB

15,940

真空機器事業

真空応用事業

100.0

(100.0)

当社製品の販売・カスタマーズサポート

あり

なし

なし

愛発科真空設備(上海)有限公司

中国上海市

千RMB

5,000

真空機器事業

100.0

(100.0)

当社製品の販売

なし

なし

なし

ULVAC Materials Korea,Ltd.

韓国坡州市

千WON

6,800,000

真空応用事業

100.0

(30.0)

当社製品の製造・販売

あり

あり

なし

愛発科電子材料(蘇州)有限公司

(注)5

中国蘇州市

千RMB

165,251

真空応用事業

100.0

(77.9)

当社製品の製造・販売

あり

なし

なし

愛発科豪威光電薄膜科技(深圳)

有限公司

中国深圳市

千RMB

60,000

真空機器事業

95.0

(95.0)

当社製品の製造・販売

あり

あり

なし

愛発科成膜技術(合肥)有限公司

中国合肥市

千RMB

80,267

真空応用事業

67.7

(67.7)

なし

なし

なし

(持分法適用関連会社)

 

 

 

 

 

 

 

 

㈱昭和真空

(注)4

相模原市中央区

2,177

真空機器事業

21.6

当社からの製品の仕入

あり

なし

なし

㈱REJ

(注)7

横浜市金沢区

300

真空応用事業

20.0

同社製品の仕入

あり

なし

なし

ULVAC AUTOMATION TAIWAN Inc.

台湾新北市

千NT$

80,000

真空応用事業

40.0

同社製品の仕入

あり

なし

なし

寧波愛発科真空技術有限公司

中国寧波市

千RMB

192,493

真空機器事業

49.0

同社製品の仕入

あり

なし

なし

 (注)1.「主要な事業」欄には、セグメントの名称を記載しております。

2.「議決権の所有割合」欄の( )内数字は、間接所有割合で内数であります。

3.持分は50%以下でありますが、実質的に支配しているため子会社としております。

4.有価証券報告書を提出している会社であります。

5.特定子会社に該当しております。

6.アルバック販売㈱については、売上高(連結会社相互間の内部売上高を除く。)の連結売上高に占める割合が10%を超えております。アルバック販売㈱の主要な損益情報等は、次のとおりであります。

会社名

売上高

(百万円)

経常利益

(百万円)

当期純利益

(百万円)

純資産額

(百万円)

総資産額

(百万円)

アルバック販売㈱

40,268

577

332

981

23,610

7.日本リライアンス㈱は、2019年1月1日付で、㈱REJに商号変更いたしました。

 

※ 販売費及び一般管理費の主要な費目及び金額は次のとおりであります。

 

 前第2四半期連結累計期間

(自  2018年7月1日

  至  2018年12月31日)

 当第2四半期連結累計期間

(自  2019年7月1日

  至  2019年12月31日)

給料手当

3,360百万円

3,624百万円

賞与引当金繰入額

250

279

役員賞与引当金繰入額

201

214

退職給付費用

302

326

役員退職慰労引当金繰入額

29

8

役員株式給付引当金繰入額

31

29

減価償却費

730

880

旅費交通費

679

613

支払手数料

1,055

1,070

研究開発費

3,289

3,240

貸倒引当金繰入額

55

2,382

製造部門による販売活動等支援費

3,080

3,400

1【設備投資等の概要】

 当連結会計年度は、12,750百万円の設備投資を行いました。
 真空機器事業につきましては、半導体及び電子部品製造装置、FPD及びPV製造装置それぞれの事業の評価用機械装置や研究開発用機械装置などに、10,370百万円の投資を行いました。
 真空応用事業につきましては、2,380百万円の投資を行いました。
 また、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。

【借入金等明細表】

区分

当期首残高

(百万円)

当期末残高

(百万円)

平均利率

(%)

返済期限

短期借入金

14,331

7,055

0.6

1年以内に返済予定の長期借入金

7,208

7,860

0.8

1年以内に返済予定のリース債務

300

306

長期借入金(1年以内に返済予定のものを除く。)

14,150

20,668

0.9

2020年12月31日

から

2029年6月30日

リース債務(1年以内に返済予定のものを除く。)

607

551

2020年8月23日

から

2026年2月28日

その他有利子負債

合計

36,596

36,440

 (注)1.「平均利率」については、借入金等の期末残高に対する加重平均利率を記載しております。

2.リース債務の平均利率については、原則として、リース料総額に含まれる利息相当額を控除する前の金額でリース債務を連結貸借対照表に計上しているため、記載しておりません。

3.長期借入金及びリース債務(1年以内に返済予定のものを除く。)の連結決算日後5年内における返済予定額は以下のとおりであります。

 

1年超2年以内

(百万円)

2年超3年以内

(百万円)

3年超4年以内

(百万円)

4年超5年以内

(百万円)

長期借入金

4,908

3,055

3,079

3,079

リース債務

226

145

91

56

【社債明細表】

 該当事項はありません。

 

株価(1年)
期間を変更
PER(1年/会予)
期間を変更

その他企業情報

企業価値158,707 百万円
純有利子負債-28,186 百万円
EBITDA・会予22,849 百万円
株数(自己株控除後)49,247,220 株
設備投資額N/A
減価償却費7,849 百万円
のれん償却費N/A
研究開発費N/A
代表者代表取締役執行役員社長  岩下 節生
資本金20,873 百万円
住所神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地
会社HPhttps://www.ulvac.co.jp/

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